Sloj silicijske ploče

Sloj silicijske ploče

Naši poluvodički{0}}slojevi silicijskih pločica pomno su projektirani kako bi se olakšala visoko kontrolirana proizvodnja uređaja u cijelom2 inča do 12 inča (50 mm - 300 mm)industrijski spektar. Konstruirani s površinskom-preciznošću na atomskoj razini, ovi funkcionalni slojevi služe kao host-visokog integriteta za najzahtjevnijeCVD/PVD taloženje-tankog filmai složene arhitekture s više-vrata.

Diferencirane tehničke prednosti:

Sub{0}}mikronska geometrijska ujednačenost:Osim jednostavne kontrole debljine, naši su slojevi provjereniUkupna varijacija debljine (TTV) i lokalna spljoštenost (SFQR). Ova ujednačenost eliminira pomicanje fokusa u fotolitografiji visoke-razlučivosti, osiguravajući da precizne operacije ostanu dosljedne od središta pločice do krajnjeg ruba.

Predvidljivo ponašanje rešetke:Održavanjem strogog praga za intersticijski kisik i ugljik, naš materijal sprječavatermičko taloženje i klizanje rešetketijekom hlapljivog visoko{0}}vakuumskog žarenja i ionske implantacije. Ovo predvidljivo ponašanje bitno je za održavanje stabilnih električnih profilaPower IC (IGBT/MOSFET)proizvodnja.

Popularni tagovi: sloj silikonske ploče, Kina proizvođači sloja silikonske ploče, dobavljači, tvornica