Baza od silikonske pločice

Baza od silikonske pločice

Ova poluvodička silicijska baza projektirana je da služi kao visoko{0}}temelj za najzamršenije slijedove izrade. Optimizirano u cijelosti2 inča (50 mm) do 12 inča (300 mm)spektra promjera, ove baze djeluju kao strukturno sidro, pružajući potrebnu mehaničku i toplinsku krutost potrebnu za više-slojnu pod-mikronsku integraciju.

Osnovne tehničke prednosti:

Ciklički strukturni integritet:Baza je projektirana tako da zadrži svoj fizički i kemijski integritet tijekom cijelog procesaciklusi izrade. Njegova superiorna termomehanička otpornost sprječava savijanje rešetke i klizanje tijekom visoko-vakuumske toplinske obrade, osiguravajući da baza ostane stabilna platforma za epitaksijalni rast i implantaciju iona.

Točnost-pokretana homogenost rešetke:Uz vrlo ujednačenu strukturu materijala, ove baze podržavaju ekstremnu točnost poravnanja u naprednoj fotolitografiji. Održavanjem čvrste kontrole nadradijalni otpor i pragove kisik/ugljik, materijal minimizira pomicanje procesa, izravno doprinoseći stabilnim naponima praga i visoko{0}}učinkovitosti uređaja.

Univerzalna prilagodba procesa:Dizajnirana za svestrana proizvodna okruženja, baza se neprimjetno prilagođava različitim koracima-uključujućiKemijska mehanička planarizacija (CMP), suho jetkanje i visoko{0}}energetska aktivacija dopanta. Ova prilagodljivost osigurava da supstrat ispunjava i premašuje najstrože tehničke proizvodne zahtjeve za moderne Power IC, RF i Logic arhitekture.

Popularni tagovi: baza silikonske ploče, proizvođači, dobavljači, tvornica baze silikonske ploče u Kini