Silicon Wafer Medium

Silicon Wafer Medium

Ovaj silicijski medij visoke-čistoće projektiran je da funkcionira kao pouzdana baza za obradu za najnaprednije mikroelektroničke arhitekture. Optimizirano u cijelosti2 inča (50 mm) do 12 inča (300 mm)spektra promjera, ovi supstrati pružaju potrebnu termomehaničku stabilnost potrebnu za složenu, više{0}}faznu integraciju uređaja unutar visoko kontroliranih proizvodnih okruženja.

Osnovne tehničke prednosti:

Uravnotežena kinetička svojstva:Medij ima precizno uravnoteženu strukturu materijala koja poboljšava toplinsku i električnu stabilnost. Održavanjem stroge kontrole nadradijalna koncentracija kisika i savršenstvo rešetke, osigurava dosljedno ponašanje tijekom-implantacije iona visoke energije i ciklusa isparljive toplinske difuzije.

Fazna stabilnost u serijama:Projektiran za-veliku proizvodnju, ovaj medij radi s iznimnom dosljednošću u svakoj proizvodnoj seriji. Ova među-stabilnost šarže smanjuje odstupanje procesa i omogućuje strožu kontrolunapon praga (Vth) i pokretljivost nositeljau Power IC i RF aplikacijama.

Precizni-orijentirani geometrijski integritet:Dizajniran za najzahtjevnije precizne primjene, medij podržava ekstremnu ravnost (TTV) i nisku deformaciju. Ovaj geometrijski integritet olakšava fotolitografsko poravnanje visoke-razlučivosti, u izravnoj korelaciji s podizanjemprinos na razini-vafera i pouzdanost uređaja.

Popularni tagovi: medij silikonskih pločica, proizvođači, dobavljači, tvornica medija za silikonske pločice u Kini